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微光学应用中的微镜压印技术
双击自动滚屏 发布者:admin 发布时间:2008/11/15 17:29:21 阅读:104454次 【字体:

微光学应用中的微镜压印技术

微光学对于200mm晶圆技术的需求日益增长。MEMS和半导体工业已有的工艺条件,几乎可以制作任意微光学器件的结构。微镜压印技术(SMILE)采用软质模板,在待压印材料上制作高质量的微镜阵列,待压印材料是8英寸玻璃基片上的紫外可固化聚合物待压印材,。该技术的典型应用是手机和小型图像传感器中使用的晶圆级照相机(WLC)。除了模板质量和材料特性外,准确的楔形误差校正和间距设定,对于压印光刻也是非常关键的。SVG MH-NanoMakerII设备提供了一个动态的楔形误差校正系统,它包含压电线性驱动器、高精度间距测量系统和接触力检测装置。采用可以进行亚微米级侧向和轴向对准精度的模板,我们已经实现了精确的双面微镜压印技术。

 

  • 8英寸微镜模版和8英寸晶圆上压印后的微镜图形。采用MH-NanoMakerII掩模对准光刻机进行压印。

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    双面压印微镜的晶圆。采用SUSS MA8 Gen3掩模对准光刻机进行压印。

    Microlens Imprinting

  • 双面压印微镜的晶圆。采用MH-NanoMakerII对准光刻机进行压印。