新闻资讯

2019-05-10

2018年度江苏省科学技术奖颁出,苏大维格站上新起点再创新优势

抓创新就是抓发展,谋创新就是谋未来!10日上午,2018年度江苏省科学技术奖励大会隆重举行,276个项目获省科学技术奖,其中一等奖45项、二等奖79项、三等奖152项,7家企业被授予省企业技术创新奖、5名外籍专家获省国际科学技术合作奖。

2019-04-24

中国交通安全与反光技术高峰论坛在江苏常州召开

此次论坛由中国公路学会和中国交通企业管理协会反光材料分会等单位指导,苏州苏大维格科技集团股份有限公司和常州华日升反光材料有限公司联合主办并承办,旨在进一步探讨反光技术在交通安全、车辆运行安全及其他领域的应用,推动交通安全设施制造水平不断提升。苏大维格集团总裁朱志坚及其子公司常州华日升总经理陆亚建均出席了此次高峰论坛,并围绕反光材料的技术条件、应用前景、意义作用等方面做了精彩的发言。

2018-12-24

苏大维格自主研发的激光图形化直写设备MiScan成功进入欧洲市场

近日,苏大维格团队带着公司自主研发的激光图形化直写设备MiScan200前往欧洲交付调试,团队凭借专业的技术能力及严谨的工作态度深受客户好评。

2018-11-12

2018苏大维格集团知识产权年会暨模拟法庭”圆满落幕

11月9日,由苏州苏大维格科技集团股份有限公司主办,苏州市育山科技协会、江苏简文律师事务所协办的“2018苏大维格集团知识产权年会暨模拟法庭”圆满落幕。本次年会旨在通过现场交底书撰写与模拟法庭实战演练的方式,提升研发人员对专利文本的理解,以及IP人员的实务水平。相信通过每年举办实战活动和激励措施,以及日常系列培训和每周定期的交流挖掘,公司研发人员的技术及交底能力和整体知识产权实力会有质的提升。

 

背光模组超薄导光板(膜)

热压印工艺将精密模具上微结构复制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光学网点结构有效地将全内反射进入导光板(膜)光线导出表面。通过微结构优化中大尺寸导光板(膜),光线从接近正出射角度导出,亮度更高,更均匀。

 

大尺寸透明导电膜(模组)

“基于柔性纳米压印技术”的新型透明导电膜制造技术,采用micro-metal-mesh(M3)制程工艺,颠覆了精密电路需要蚀刻的传统工艺,通过纳米压印和增材制造(选择性生长),获得大幅面高性能透明导电膜和自支撑透明导电材料

 

创新 + 资本+ 产业的官助民营新型研究院

苏州苏大维格科技集团股份有限公司

 

总部

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最新公告

2019-04-08

苏大维格喜获2018年度江苏省科学技术奖一等奖

苏州苏大维格科技集团股份有限公司(以下简称“公司”)于近日收到江苏 省人民政府下发的《省政府关于 2018 年度江苏省科学技术奖励的决定》[苏政发 (2019)22 号],公司获得 2018 年度江苏省科学技术奖一等奖。

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2019-01-09

项目介绍:面向微纳3D形貌的紫外光刻直写技术与设备

超薄化、轻量化意味着微纳结构的运用。然而,大面积3D微纳结构的设计与制造面临巨大挑战。首先,大面积3D微纳结构涉及海量数据处理与设计。例如,一个超薄导光器件上的微透镜有数千万个以上;一件口径10mm以上的超透镜,含有数十亿到数百亿个数据单元;一幅大尺寸透明电路传感器涉及数十Tb以上的数据量;大口径薄膜成像透镜涉及精确3D形貌,数据量会数量级增大;第二,将设计数据转换成微纳结构的途径与效率。如何将这么庞大数据直接转换成微纳3D结构?不仅需要高速率海量数据并行处理、压缩、传输与转化技术,还需转换系统的高精度、可调性与可靠性;第三,先进工艺技术保障。大面积衬底伴随着不平整度远大于光刻系统的焦深,因此,必须解决衬底不平整性对微结构分辨率和保真度的影响,解决与成像焦深的矛盾,才能实现高保真3D微结构的高效率制备。

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2019-01-09

项目介绍:光场调控的纳米光刻设备NanoCrystal200

研究表明,微纳尺度界面与光电子相互作用产生的效应,是设计超材料、超表面的新途径。微纳结构制造技术是实现薄膜成像、透明导电、电磁隐身等技术基础。由于3D 形貌及其排列精度对光子材料与器件的特性有极其重要的影响,因而,在大面积衬底上实现纳米精度的微纳结构的高效制备,一直是国际关注的重大共性难题。

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2019-01-09

项目介绍:微纳3D打印/光刻技术与设备

在微结构打印方案中,已有的3D打印技术存在诸多限制,未有效解决器件尺寸与精度之间的矛盾、也存在3D结构打印保真度与可靠性不协调的难题。1、利用超快激光的“双光子效应”的3D打印,分辨率可达0.1微米,但串行写入模式,效率极低、对环境稳定性要求极高,打印尺寸一般小于300微米。由于耗时太长,所以,可靠性降低;受制于非线性材料特性和处理工艺,打印一致性很难保障;2、光固化3D打印(SLA),利用胶槽供胶与DLP投影光逐层打印的方法,打印的特征尺寸一般大于50微米,受投影比例限制,打印面积数毫米。由于累积曝光效应,对胶槽中光固化胶的吸收特性有严格要求,易导致打印的结构展宽,尤其对大深宽比微结构的打印,失真严重。

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